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開(kāi)關(guān)電源之pcb的沉銀層有缺陷怎么辦

來(lái)源:東莞市成良智能科技   發(fā)布時(shí)間:2019-09-28   點(diǎn)擊量:1115


沉銀工藝是線(xiàn)路板表面處理的工藝之一,也是開(kāi)關(guān)電源之PCB線(xiàn)路板制作過(guò)程中的最后一道工序,該工藝直接決定著成品線(xiàn)路板的質(zhì)量。探討造成銀層缺陷的最普遍原因和如何通過(guò)優(yōu)化沉銀工藝來(lái)減少在量產(chǎn)時(shí)的各種缺陷,有關(guān)調(diào)查結(jié)果公布如下:

因?yàn)?a href="http://browserhelp.cn/product.html" target="_blank">開(kāi)關(guān)電源之印制線(xiàn)路板完成裝配后不能重工,所以因微空洞而報(bào)廢所造成的成本損失最高。
通過(guò)對(duì)造成缺陷的根本原因分析,可經(jīng)由工藝改善和參數(shù)優(yōu)化相結(jié)合的方式將這些缺陷率降到最低。通常出現(xiàn)在阻焊膜和銅面之間的裂縫下。開(kāi)關(guān)電源之PCB在沉銀過(guò)程中,因?yàn)榱芽p的縫隙非常小,限制了沉銀液對(duì)此處的銀離子供應(yīng),但是此處的銅可以被腐蝕為銅離子,然后在裂縫外的銅表面上發(fā)生沉銀反應(yīng)。因?yàn)殡x子轉(zhuǎn)換是沉銀反應(yīng)的源動(dòng)力,所以裂縫下銅面受攻擊程度與沉銀厚度直接相關(guān)。

下面任何一個(gè)原因都會(huì)形成開(kāi)關(guān)電源之PCB裂縫:側(cè)蝕/顯影過(guò)度或阻焊膜與銅面結(jié)合不好;不均勻的電鍍銅層(孔口薄銅處);阻焊膜下基材銅上有明顯的深刮痕。
開(kāi)關(guān)電源之PCB腐蝕是由于空氣中的硫或氧與金屬表面反應(yīng)而產(chǎn)生的。銀與硫反應(yīng)會(huì)在表面生成一層黃色的硫化銀(Ag2S)膜,若硫含量較高,硫化銀膜最終會(huì)轉(zhuǎn)變成黑色。銀被硫污染有幾個(gè)途徑,空氣(如前所述)或其他污染源,如PWB包裝紙。銀與氧的反應(yīng)則是另外一種過(guò)程,通常是氧和銀層下的銅發(fā)生反應(yīng),生成深褐色的氧化亞銅。這種缺陷通常是因?yàn)槌零y速度非???,形成低密度的沉銀層,使得銀層低部的銅容易與空氣接觸,因此銅就會(huì)和空氣中的氧產(chǎn)生反應(yīng)。疏松的晶體結(jié)構(gòu)的晶粒間空隙較大,因而需要更厚的沉銀層才能達(dá)到抗氧化。

開(kāi)關(guān)電源之PCB露銅 通常與沉銀前的化學(xué)工序有關(guān)。這種缺陷在沉銀工藝后顯現(xiàn),主要是因?yàn)榍爸瞥涛赐耆コ臍埩裟ぷ璧K了銀層的沉積而產(chǎn)生的。最常見(jiàn)的是由阻焊工藝帶來(lái)的殘留膜,它是在顯影液中顯影未凈所致, 也就是所謂的“殘膜”,這層殘膜阻礙了沉銀反應(yīng)。機(jī)械處理過(guò)程也是產(chǎn)生露銅的原因之一,線(xiàn)路板的表面結(jié)構(gòu)會(huì)影響板面與溶液接觸的均勻程度,溶液循環(huán)不足或過(guò)多同樣會(huì)形成不均勻的沉銀層。

開(kāi)關(guān)電源之PCB離子污染 線(xiàn)路板表面存在的離子物質(zhì)會(huì)干擾線(xiàn)路板的電性能。這些離子主要來(lái)自沉銀液本身(殘存在沉銀層或在阻焊膜下)。不同沉銀溶液離子含量不同,離子含量越高的溶液,在同樣的水洗條件下,離子污染值越高。沉銀層的孔隙度也是影響離子污染的重要因素之一,孔隙度高的銀層容易殘存溶液中的離子,使得水洗的難度增大,最終會(huì)導(dǎo)致離子污染值的相應(yīng)升高。

開(kāi)關(guān)電源之PCB微空洞通常直徑小于1mil,位于焊料和焊接面之間的金屬界面化合物之上的空洞被稱(chēng)為微空洞,因?yàn)樗鼘?shí)際上是焊接面的“平面空泡群”,所以極大的減小了焊接結(jié)合力。OSP、ENIG以及沉銀表面都會(huì)出現(xiàn)微空洞,其形成的根本原因尚未明確,但已確認(rèn)了幾個(gè)影響因素。盡管沉銀層的所有微空洞都發(fā)生在厚銀(厚度超過(guò)15μm)表面,但并非所有的厚銀層都會(huì)發(fā)生微空洞。

三、開(kāi)關(guān)電源之PCB預(yù)防措施
預(yù)防措施的制訂需要考量實(shí)際生產(chǎn)中化學(xué)品和設(shè)備對(duì)各種缺陷的貢獻(xiàn)度,才能避免或消除缺陷并提升良品率。
開(kāi)關(guān)電源之PCB剝膜,蝕刻以及剝錫工序中的過(guò)度腐蝕或側(cè)蝕都會(huì)促使裂縫的形成,裂縫中會(huì)殘留微蝕溶液或其他溶液。
要得到好的沉銀層,在沉銀的位置必須是100%金屬銅,每個(gè)槽溶液都有良好的貫孔能力,而且通孔內(nèi)溶液能夠有效交換。若是非常精細(xì)的結(jié)構(gòu),如HDI 板,在前處理和沉銀槽液中安裝超聲波或噴射器非常有用。

開(kāi)關(guān)電源之PCB腐蝕 可以通過(guò)提高鍍層密度,降低孔隙度來(lái)減小。使用無(wú)硫材料包裝,同時(shí)以密封來(lái)隔絕板與空氣的接觸,也防止了空氣中夾帶的硫接觸銀表面。最好將包裝好的板存放在溫度30℃、相對(duì)濕度40%的環(huán)境中。雖然沉銀板的保存期很長(zhǎng),但是存儲(chǔ)時(shí)仍要遵循先進(jìn)先出原則。

開(kāi)關(guān)電源之PCB露銅 可以通過(guò)優(yōu)化沉銀的前工序來(lái)降低或消除。為了達(dá)到這個(gè)目的,可在微蝕后通過(guò)“破水”實(shí)驗(yàn)或“亮點(diǎn)”實(shí)驗(yàn)來(lái)檢查銅表面,清潔的銅表面可以保持水膜至少40秒。定期維護(hù)保養(yǎng)設(shè)備以確保溶液循環(huán)均勻穩(wěn)定,通過(guò)DOE優(yōu)化時(shí)間、溫度、攪拌來(lái)獲得最佳的沉銀操作參數(shù),進(jìn)而確保得到理想的厚度和高品質(zhì)的銀層。


開(kāi)關(guān)電源之PCB離子污染 可通過(guò)降低沉銀溶液的離子濃度來(lái)降低?;谶@個(gè)原因,在不影響溶液性能的條件下,沉銀液的離子含應(yīng)盡可能保持在較低水平。通常最后的清洗段要用去離子水清洗至少1分鐘,同時(shí)還必須定期檢測(cè)離子含量(陰離子和陽(yáng)離子)是否符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

開(kāi)關(guān)電源之PCB微空洞 是最難預(yù)防的一種缺陷,因?yàn)樗a(chǎn)生的真正原因尚未明確。誠(chéng)如前面所述,我們已經(jīng)知道有些因素似乎會(huì)引發(fā)微空洞或伴隨微空洞而出現(xiàn),可以通過(guò)消除或盡量減少這些因素來(lái)達(dá)到控制出現(xiàn)微空洞問(wèn)題。其中沉銀厚度引發(fā)微空洞的最顯著因素,所以控制沉銀層厚度是首要步驟。其次還應(yīng)該調(diào)整微蝕速度和沉銀速度以獲得光滑均勻的表面結(jié)構(gòu)。


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